半導體超純水設(shè)備的工藝流程介紹
文章作者: 宏森環(huán)保
傳統(tǒng)的半導體超純水設(shè)備采用電滲析和離子交換器，而最新的半導體超純水設(shè)備則是將離子交換器和電滲析兩者相結(jié)合的一種新型除鹽技術(shù)，可以除掉水中的陰陽離子，出水電阻率在15MΩ.CM以上。
那么，半導體超純水設(shè)備的工藝，你了解嗎？今天就由宏森環(huán)保來為大家介紹一下半導體超純水設(shè)備的工藝。
1、采用離子交換方式(離子交換工藝參數(shù))，其流程如下：原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點。
2、采用兩級反滲透方式，其流程如下：原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點。
3、采用EDI方式，其流程如下：原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點。
以上就是關(guān)于半導體超純水設(shè)備的工藝流程介紹，有不明白的歡迎咨詢宏森環(huán)?？头藛T，我們將竭誠為您服務(wù)。
